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頂立科技兩大創(chuàng)新技術:石墨提純與TaC涂層,領跑國際先進水平!

   發(fā)布時間:2025-08-30 18:05 作者:長沙晚報

近日,長沙經(jīng)開區(qū)內(nèi)的頂立科技傳來振奮人心的消息,該企業(yè)在先進材料制備領域取得了兩項重大自主研發(fā)成果,均被權威機構認定為國際領先水平。這兩項成果分別是“天然石墨高溫綠色提純技術與裝備”和“第三代半導體用高均勻高致密TaC涂層石墨件制備技術及應用”。

在天然石墨提純技術方面,頂立科技攜手五礦石墨、南昌大學及北京工業(yè)大學等合作伙伴,共同攻克了傳統(tǒng)濕法提純工藝污染嚴重及間歇式高溫提純能耗高等難題。他們成功研發(fā)出連續(xù)式高溫綠色提純技術與成套裝備,實現(xiàn)了天然石墨提純由間歇式向連續(xù)式的跨越。這一突破不僅解決了超長作業(yè)空間3000℃級熱場構建與保持、長時連續(xù)提純動態(tài)密封與高效排雜等關鍵技術瓶頸,還在行業(yè)內(nèi)首次實現(xiàn)了4N5以上天然石墨的大規(guī)模連續(xù)化生產(chǎn),為人造金剛石及新一代半導體材料的穩(wěn)定供應提供了堅實的裝備技術支撐。

在第三代半導體材料領域,頂立科技同樣取得了顯著進展。針對石墨產(chǎn)品傳統(tǒng)TaC涂層工藝中存在的技術難題,頂立科技與湖南三安半導體、南昌大學合作,成功開發(fā)出高均勻高致密TaC涂層石墨件制備技術及應用項目。通過突破6N以上高純石墨基體提純工藝及高均勻高致密TaC涂層制備技術,他們形成了從工藝到技術再到裝備的完整TaC涂層石墨件制備體系,實現(xiàn)了高性能TaC涂層石墨件的批量穩(wěn)定制備。這一成果對于保障國家第三代半導體產(chǎn)業(yè)鏈安全具有重要意義。

據(jù)頂立科技相關負責人介紹,此次兩項國際領先成果的取得,充分展示了公司在高端材料裝備領域的持續(xù)創(chuàng)新能力。該負責人還表示,頂立科技將繼續(xù)深耕先進材料制備領域,加強產(chǎn)學研用協(xié)同創(chuàng)新,為我國半導體、新能源、航空航天等戰(zhàn)略性新興產(chǎn)業(yè)提供更加高水平的材料與裝備解決方案,為實現(xiàn)產(chǎn)業(yè)鏈供應鏈的自主可控貢獻力量。

 
 
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