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臺(tái)積電2nm技術(shù)亮相:性能提升15%,功耗降30%,晶片價(jià)格不菲

   發(fā)布時(shí)間:2024-12-17 14:17 作者:江紫萱

在IEEE國(guó)際電子器件會(huì)議的聚光燈下,全球晶圓代工領(lǐng)域的領(lǐng)航者臺(tái)積電,于近日揭開了其最新的2納米(N2)制程技術(shù)的神秘面紗。這項(xiàng)技術(shù)的發(fā)布,無疑為整個(gè)半導(dǎo)體行業(yè)帶來了新的震撼。

臺(tái)積電所展示的2納米制程技術(shù),相較于其前代,實(shí)現(xiàn)了性能上15%的顯著提升,同時(shí)功耗降低了30%,能效表現(xiàn)尤為出色。這一突破性的進(jìn)步,無疑將為用戶帶來更為卓越的產(chǎn)品體驗(yàn)。

尤為臺(tái)積電此次重點(diǎn)推介了其創(chuàng)新的2納米“納米片”技術(shù)。該技術(shù)通過獨(dú)特的堆疊窄硅帶結(jié)構(gòu),結(jié)合環(huán)繞式柵極與GAA納米片晶體管的應(yīng)用,使得晶體管的密度得到了1.15倍的大幅提升。該技術(shù)還賦予了制造商更大的靈活性,能夠根據(jù)不同的應(yīng)用場(chǎng)景,對(duì)參數(shù)進(jìn)行微調(diào),從而實(shí)現(xiàn)更為精準(zhǔn)的電流控制。

從性能上來看,臺(tái)積電的N2制程相較于3納米及其衍生制程,展現(xiàn)出了明顯的優(yōu)勢(shì)。這一優(yōu)勢(shì),也吸引了包括蘋果、英偉達(dá)等在內(nèi)的眾多行業(yè)巨頭的關(guān)注。然而,伴隨著性能的提升,N2晶圓的價(jià)格也水漲船高,據(jù)透露,一片N2晶圓的價(jià)格可能在2.5萬美元至3萬美元之間。

盡管臺(tái)積電表示,由于初期產(chǎn)量受限以及良率、試生產(chǎn)等因素的考量,N2制程的普及速度可能會(huì)相對(duì)較慢,但其在性能、功耗以及晶體管密度等方面的卓越表現(xiàn),依然讓人印象深刻??梢灶A(yù)見的是,臺(tái)積電的2納米制程技術(shù),有望成為未來半導(dǎo)體行業(yè)的又一標(biāo)桿。

 
 
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